Câu hỏi:

12/07/2024 963

II-Tự luận
Viết phương trình điều chế: $C l_{2}$ trong công nghiệp và HCl trong phòng thí nghiệm (theo phương pháp sunfat)

Câu hỏi trong đề: Bộ 4 Đề kiểm tra 15 phút - Trắc nghiệm + Tự luận !!

Sách mới 2k7: Bộ 20 đề minh họa Toán, Lí, Hóa, Văn, Sử, Địa…. form chuẩn 2025 của Bộ giáo dục (chỉ từ 49k/cuốn).

Đề toán-lý-hóa Đề văn-sử-địa Tiếng anh & các môn khác

Quảng cáo

Trả lời:

Giải bởi Vietjack

- Sản xuất clo trong CN:

Đề kiểm tra Hóa học 10 có đáp án

- Điều chế HCl trong PTN theo pp sunfat:

Đề kiểm tra Hóa học 10 có đáp án

Nhà sách VIETJACK:

Xem thêm kho sách »

Combo - Sổ tay kiên thức trọng tâm Toán, Lí, Hóa dành cho 2k7 VietJack

₫29.000 (Đã bán 152)

Sách - Tuyển tập 30 đề thi đánh giá năng lực Đại học Quốc gia Hà Nội 2025 cho 2k7 VietJack

₫140.000 ₫300.000 (Đã bán 1,2k)

Sách Combo - Tuyển tập 30 đề thi đánh giá năng lực Đại học Quốc gia TP Hồ Chí Minh (2 cuốn) - 2025 cho 2k7 VietJack

₫140.000 ₫300.000 (Đã bán 1,6k)

Sách - Tuyển tập 15 đề thi Đánh giá tư duy Đại học Bách Khoa Hà Nội 2025 cho 2k7 VietJack

₫140.000 ₫300.000 (Đã bán 2,7k)

Bình luận

CÂU HỎI HOT CÙNG CHỦ ĐỀ

Câu 1:

Halogen nào được ứng dụng để tạo hợp chất chống dính trong xoong, chảo, nồi cơm điện… ?

A. Flo.

B. Iot.

C. Brom.

D. Clo.

Xem đáp án » 02/07/2020 8,281

Câu 2:

Hãy nêu phương pháp bảo quản muối iot và cách dùng muối iot khi nấu thức ăn nhằm hạn chế sự thất thoát iot.

Xem đáp án » 12/07/2024 4,754

Câu 3:

Cho 1,58 gam $K M n O_{4}$ vào 100 ml dd HCl 1M. Sau phản ứng hoàn toàn, thu được V lít khí $C l_{2}$ (đktc) và dd X. Cho toàn bộ dd X ở trên vào dd $A g N O_{3}$ dư thu được m gam kết tủa. Tính m?

Xem đáp án » 12/07/2024 1,595

Câu 4:

Cho 1,58 gam $K M n O_{4}$ vào 100 ml dd HCl 1M. Sau phản ứng hoàn toàn, thu được V lít khí $C l_{2}$ (đktc) và dd X. Viết phương trình phản ứng xảy ra và tính V?

Xem đáp án » 12/07/2024 938

Câu 5:

I-Trắc nghiệm
Các đơn chất halogen $(F_{2}, C l_{2}, B r_{2}, I_{2})$ có đặc điểm chung là

A. chất khí ở điều kiện thường.

B. có tính oxi hóa mạnh.

C. vừa có tính oxi hóa, vừa có tính khử.

D. Tác dụng mạnh với nước.

Xem đáp án » 02/07/2020 752

Câu 6:

Cấu hình electron lớp ngoài cùng của các ion halogenua (X-) là

A. $n s^{2} n p^{4}$ .

B. $n s^{2} n p^{5}$

C. $n s^{2} n p^{6}$

D. $(n - 1) d^{10} n s^{2} n p^{5} .$

Xem đáp án » 02/07/2020 746

Xem thêm các câu hỏi khác »

II-Tự luận
Viết phương trình điều chế: $C l_{2}$ trong công nghiệp và HCl trong phòng thí nghiệm (theo phương pháp sunfat)

Nhà sách VIETJACK:

Bình luận

Halogen nào được ứng dụng để tạo hợp chất chống dính trong xoong, chảo, nồi cơm điện… ?

Hãy nêu phương pháp bảo quản muối iot và cách dùng muối iot khi nấu thức ăn nhằm hạn chế sự thất thoát iot.

Cho 1,58 gam $K M n O_{4}$ vào 100 ml dd HCl 1M. Sau phản ứng hoàn toàn, thu được V lít khí $C l_{2}$ (đktc) và dd X. Cho toàn bộ dd X ở trên vào dd $A g N O_{3}$ dư thu được m gam kết tủa. Tính m?

Cho 1,58 gam $K M n O_{4}$ vào 100 ml dd HCl 1M. Sau phản ứng hoàn toàn, thu được V lít khí $C l_{2}$ (đktc) và dd X. Viết phương trình phản ứng xảy ra và tính V?

I-Trắc nghiệm
Các đơn chất halogen $(F_{2}, C l_{2}, B r_{2}, I_{2})$ có đặc điểm chung là

Cấu hình electron lớp ngoài cùng của các ion halogenua (X-) là

VIP +3 tháng ( 199,000 VNĐ )

VIP +6 tháng ( 299,000 VNĐ )

VIP +12 tháng ( 499,000 VNĐ )

🔥 Đề thi HOT:

II-Tự luậnViết phương trình điều chế: Cl2 trong công nghiệp và HCl trong phòng thí nghiệm (theo phương pháp sunfat)

Nhà sách VIETJACK:

Bình luận

Halogen nào được ứng dụng để tạo hợp chất chống dính trong xoong, chảo, nồi cơm điện… ?

Hãy nêu phương pháp bảo quản muối iot và cách dùng muối iot khi nấu thức ăn nhằm hạn chế sự thất thoát iot.

Cho 1,58 gam KMnO4 vào 100 ml dd HCl 1M. Sau phản ứng hoàn toàn, thu được V lít khí Cl2 (đktc) và dd X. Cho toàn bộ dd X ở trên vào dd AgNO3 dư thu được m gam kết tủa. Tính m?

Cho 1,58 gam KMnO4 vào 100 ml dd HCl 1M. Sau phản ứng hoàn toàn, thu được V lít khí Cl2 (đktc) và dd X. Viết phương trình phản ứng xảy ra và tính V?

I-Trắc nghiệmCác đơn chất halogen F2, Cl2, Br2, I2 có đặc điểm chung là

Cấu hình electron lớp ngoài cùng của các ion halogenua (X-) là

VIP +3 tháng ( 199,000 VNĐ )

VIP +6 tháng ( 299,000 VNĐ )

VIP +12 tháng ( 499,000 VNĐ )

🔥 Đề thi HOT:

CHỌN BỘ SÁCH BẠN MUỐN XEM

Đăng ký

Đăng nhập

Quên mật khẩu

II-Tự luận
Viết phương trình điều chế: $C l_{2}$ trong công nghiệp và HCl trong phòng thí nghiệm (theo phương pháp sunfat)

Cho 1,58 gam $K M n O_{4}$ vào 100 ml dd HCl 1M. Sau phản ứng hoàn toàn, thu được V lít khí $C l_{2}$ (đktc) và dd X. Cho toàn bộ dd X ở trên vào dd $A g N O_{3}$ dư thu được m gam kết tủa. Tính m?

Cho 1,58 gam $K M n O_{4}$ vào 100 ml dd HCl 1M. Sau phản ứng hoàn toàn, thu được V lít khí $C l_{2}$ (đktc) và dd X. Viết phương trình phản ứng xảy ra và tính V?

I-Trắc nghiệm
Các đơn chất halogen $(F_{2}, C l_{2}, B r_{2}, I_{2})$ có đặc điểm chung là