Dung dịch chất nào sau đây được dùng để trung hòa môi trường base, hoặc thủy phân các chất trong quá trình sản xuất, tẩy rửa gỉ sắt (thành phần chính là các iron oxide) bám trên bề mặt của các loại thép?

A. Giảm dần.

B. Tăng dần.

C. Tăng sau đó giảm dần.

D. Không xác định được.

A. sản xuất hợp chất CFC rất tốn kém.

B. hiệu quả sử dụng của HCFC cao hơn CFC trong các hệ thống làm lạnh.

C. CFC dễ gây ngộ độc khi sản xuất.

D. CFC làm phá hủy tầng ozone khi xâm nhập vào khí quyển.

A. dung dịch HCl.

B. quỳ tím.

C. dung dịch BaCl₂.

D. dung dịch AgNO₃.

A. tăng dần.

B. giảm dần.

C. tăng sau đó giảm.

D. giảm sau đó tăng.

A. Do nguyên tử nguyên tố fluorine có độ âm điện lớn.

B. Do giữa các phân tử hydrogen fluoride còn có tương tác van der Waals.

C. Do giữa các phân tử hydrogen fluoride còn tạo liên kết hydrogen với nhau.

D. Do giữa các phân tử hydrogen fluoride còn tạo liên kết cho – nhận với nhau.

A. sulfur dioxide.

B. chromium trioxide.

C. cryolite.

D. carbon monoxide.