Ưu điểm chính của kỹ thuật E-Beam là gì so với phương pháp photolithography truyền thống?

A. 10 – 500

B. 500 – 20,000

C. 20,000 – 1,000,000

D. > 1,000,000

A. Xử lý các phép toán đồ họa phức tạp

B. Quản lý lưu trữ dữ liệu

C. Thực hiện các phép toán số học và logic cơ bản

D. Điều khiển việc kết nối mạng

A. Tạo các mạch mỏng trên wafer

B. Phủ lên một lớp photoresist

C. Chuyển đổi mô hình trên mask thành hình ảnh trên wafer

D. Kiểm tra chất lượng của wafer

A. Phủ lên một lớp photoresist

B. Đánh bóng bề mặt wafer

C. Tạo các mạch mỏng trên wafer

D. Cắt wafer thành các chip nhỏ

A. DIP

B. SMD

C. QFP

D. QFN

A. Tạo các mô-đun đồng thời

B. Lập trình các mạch số phức tạp

C. Định nghĩa kiến trúc phần cứng của mạch

D. Thực hiện kiểm tra mạch tự động