Quá trình photoresist trong VLSI là gì?

A. Chất sơn phủ lên wafer

B. Chất nhạy ánh sáng dùng để chiếu vào wafer

C. Chất tạo hình bề mặt wafer

D. Chất làm mỏng wafer

A. Quá trình tạo các lỗ giếng doped với điện tích âm trên wafer

B. Quá trình tạo các lỗ giếng doped với điện tích dương trên wafer

C. Quá trình tạo lỗ giếng không doped trên wafer

D. Quá trình làm mỏng wafer

A. Kim loại

B. Nhựa tổng hợp

C. Silicon

D. Thủy tinh

A. Một loại bộ nhớ dùng để lưu trữ dữ liệu

B. Một thành phần bán dẫn dùng để kiểm soát dòng điện trong mạch

C. Một loại linh kiện được sử dụng trong quá trình diffusion

D. Một thành phần bán dẫn dùng để lưu trữ dữ liệu tạm thời

A. Tăng điện áp ngưỡng

B. Giảm điện áp ngưỡng

C. Không ảnh hưởng đến điện áp ngưỡng

D. Điện áp ngưỡng không tồn tại trong transistor MOSFET

A. Twin-well sử dụng hai lớp n-well và p-well, trong khi triple-well sử dụng ba lớp n-well và p-well.

B. Twin-well sử dụng ba lớp n-well và p-well, trong khi triple-well sử dụng hai lớp n-well và p-well.

C. Twin-well và triple-well là hai thuật ngữ đồng nghĩa và có cùng ý nghĩa.

D. Twin-well và triple-well là hai phương pháp khác nhau nhưng không liên quan đến VLSI.

A. Một loại mô-đun bán dẫn nhỏ gọn

B. Một thiết bị lưu trữ dữ liệu

C. Một loại vật liệu trắng trong chế tạo mạch

D. Lõi silicon đơn thuần được sử dụng để chế tạo mạch tích hợp