Tụ điện là gì trong thiết kế VLSI?

A. Quá trình tạo các lỗ giếng doped với điện tích âm trên wafer

B. Quá trình tạo các lỗ giếng doped với điện tích dương trên wafer

C. Quá trình tạo lỗ giếng không doped trên wafer

D. Quá trình làm mỏng wafer

A. Chất sơn phủ lên wafer

B. Chất nhạy ánh sáng dùng để chiếu vào wafer

C. Chất tạo hình bề mặt wafer

D. Chất làm mỏng wafer

A. Twin-well sử dụng hai lớp n-well và p-well, trong khi triple-well sử dụng ba lớp n-well và p-well.

B. Twin-well sử dụng ba lớp n-well và p-well, trong khi triple-well sử dụng hai lớp n-well và p-well.

C. Twin-well và triple-well là hai thuật ngữ đồng nghĩa và có cùng ý nghĩa.

D. Twin-well và triple-well là hai phương pháp khác nhau nhưng không liên quan đến VLSI.

A. Quá trình tạo các lỗ giếng doped với điện tích âm trên wafer

B. Quá trình tạo các lỗ giếng doped với điện tích dương trên wafer

C. Quá trình tạo lỗ giếng không doped trên wafer

D. Quá trình làm mỏng wafer

A. Kim loại

B. Nhựa tổng hợp

C. Silicon

D. Thủy tinh

A. Làm mỏng wafer

B. Làm dày wafer

C. Tạo hình các thành phần mạch trên wafer

D. Tạo bảo vệ bề mặt wafer